超純水（UPW，電阻率≥18.25 MΩ?cm @25℃）主流分為預處理→一級反滲透→EDI / 混床→拋光精處理四大階段，根據(jù)進水水質、用水等級（電子半導體 / 實驗室 / 制藥）調整配置。
簡易實驗室路線（水量小）：原水→預處理→一級 RO→EDI→拋光混床
過濾介質： 精制淺層石英砂，可搭配多介質復合濾料
設計壓力： 常規(guī)0.1–0.6MPa，運行壓力穩(wěn)定
殼體材質： 碳鋼防腐、不銹鋼304/316
殼體材質： 碳鋼防腐、不銹鋼304/316
設計壓力： 常規(guī)0.1–0.6MPa，運行壓力穩(wěn)定
過濾介質： 精制淺層石英砂，可搭配多介質復合濾料
過濾介質： 精制淺層石英砂，可搭配多介質復合濾料
設計壓力： 常規(guī)0.1–0.6MPa，運行壓力穩(wěn)定
殼體材質： 碳鋼防腐、不銹鋼304/316
殼體材質： 碳鋼防腐、不銹鋼304/316
設計壓力： 常規(guī)0.1–0.6MPa，運行壓力穩(wěn)定
過濾介質： 精制淺層石英砂，可搭配多介質復合濾料
